光刻机和刻蚀机的区别是光刻机把图案印上去，而刻蚀机是根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者无图的部分，留下剩余的部分，光刻机利用的是光学和化学反应原理和化学以及物理刻蚀方法。

光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。